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重要度が増してきている

電子デバイスへのめっき技術と適用事例

高密度実装技術やディスプレイなどの大型化に対して検討および実用化されている
                   めっき技術を具体例を挙げて解説する特別セミナー!!

講師

関東学院大学 工学部 物質生命科学科 小岩 一郎先生

日時
会場

連合会館 (東京・お茶の水)

会場案内

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受講料
(消費税等込み)1名:47,250円 同時複数人数申込みの場合 1名:42,000円
テキスト

受講概要

予備知識

 下記の「入門 新めっき」を読んでいることが望ましいが、必要条件ではない。
  ・「入門 新めっき技術」 (2007年1月 工業調査会 齋藤囲、本間英夫、山下嗣人、小岩一郎)

修得知識

 1)電子デバイスへのめっき技術の応用が理解できる。
 2)電子デバイスの動向が理解できる。

講師の言葉

 近年、めっき技術が注目を集め、多くの分野で実用化されている。
 従来のエレクトロニクス産業の発展を支えてきたのは、半導体技術の発展が寄与する部分が大きかった。
 ムーアの法則に従って、3年で4倍、10年で100倍の高密度化を半導体技術が達成してきたが、物理的な
限界に達してきており、従来と同様の方法では、今後は同様の発展は期待できない。 しかし、ユビキタス社会を
迎え、多くの電子デバイスが携帯化されることにより、高性能・多機能・小型化が強く要求されている。
 代表的な携帯電話を例にしても、小型化・多機能化が急激に進んでいる。
 今後の、電子機器の発展の重要な推進役の一つが高密度実装技術であり、ウエハレベルチップサイズパッケージや
貫通電極、プリント配線板などの重要な部分にめっき技術が用いられている。
 また、半導体技術においても、銅配線でめっき技術が用いられている。
 さらに、小型化だけでなく、ディスプレイなどに見られるように大型化も進んでいる分野もある。
 本講義においては、上述の高密度実装技術や大型化に対して検討および実用化されているめっき技術に関して
具体例を挙げて述べる。 

プログラム

1.今後のエレクトロニクスデバイスの動向
 1.1.小型化・多機能化の進展を支える技術
 1.2.高密度実装技術の必要性
2.めっき法の躍進
 2.1.今までめっき技術
 2.2.スパッタリング法との比較
 2.3.エレクトロニクスにめっきが使用されるようになる2つの要素
 2.4.現在のエレクトロニクス分野へのめっき法の適用
3.エレクトロニクスデバイスを進化させるめっき技術
 3.0.めっき法とは
 3.1.プリント基板の微細化(配線形成技術、基板の平坦化)
 3.2.プリント基板の積層化(ビア技術)
 3.3.積層チップの貫通電極
 3.4.異方性導電粒子の作製法
 3.5.バンプ形成技術
 3.6.WーCSPの配線とポスト形成技術
 3.7.フレキシブル配線板とITOの接合
 3.8.ワイヤーボンディング用金めっきの薄膜化
 3.9.コネクタのめっき
 3.10.チップ部品のめっき
 3.11.大型デバイスのめっき
 3.12.めっき法によるガラスマスクの作製
 3.13.医療分野へのめっき技術の展開
4.まとめ