ＬＳＩ研究開発の効率化からＬＳＩ量産の歩留向上まで、どのフェーズで必要な

ＬＳＩ故障解析技術：基礎から最先端まで

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事例を交えてＬＳＩ故障解析の基礎から最新技術動向を解説する特別セミナー！

講師: ＮＥＣエレクトロニクス株式会社生産事業本部　
　
テスト評価技術事業部　　シニアプロフェッショナル　　工学博士二川　清先生

日時

会場: 連合会館 (東京・お茶の水）
会場案内

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受講料: 1名：47,250円　同時複数人数お申込みの場合1名：42,000円

テキスト

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受講概要

予備知識

ＬＳＩに関する基礎的な知識

受講後の修得知識

ＬＳＩの故障解析に関する基礎知識ならびに最新情報

講師の言葉

最先端ＬＳＩ研究開発の効率化から普及版ＬＳＩ量産の歩留向上までのどのフェーズにも、さらには顧客満足度（ＣＳ）向上にも、故障解析は必要不可欠の技術です。

本講座では、故障解析の予備知識や実務経験のない方にも、故障解析のプロにも有益であるように、その基礎から最先端までを解説します。

故障解析技術の多くは固有の発展をしているため、他分野から参入された技術者にはなじみのない多くの技術の蓄積です。

そのような方にも理解できるようにその特徴を多面的に眺めます。また、最先端の動向は経験の少ない技術者には理解困難なものがありますが、このような点も考慮して、

最先端の技術についても予備知識なしで理解できるよう工夫しました。故障解析のプロの方は、最新の情報収集の場として、また議論の場として活用ください。

直前に開催される日本最大の故障解析関連会議であるLSITS(ＬＳＩテスティングシンポジウム,2006/11/8-10）と米国最大の故障解析関連会議である

ISTFA(故障解析国際会議, 2006/11/12-16)、からの最新の情報もお伝えできるかと思います。

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プログラム

Ⅰ．LSIの故障と特徴

1.故障解析に関連するLSIのトレンド（ITRS2005より）

2.LSIの故障の特徴

3.重要な故障原因と故障メカニズム

Ⅱ．LSIの故障解析技術概論

0.基本の「き」

1.故障解析の手順

2.故障解析技術の分類

  　　 ①原理面
　   　②機能面

3.パッケージ部の故障解析

4.チップ部の故障解析

       a.非破壊絞り込み技術
              ①IR-OBIRCH
　　　             a.　OBIRCH技術概論
	         ・OBIRCH技術による欠陥と電流経路の可視化
　　	         ・OBIRCH技術の発展・改良
　　	         ・OBIRCH技術の将来
　　　             b.　OBIRCH技術の応用事例
	         ・配線系の解析
	         ・メモリの解析
	         ・システムLSIの解析
	         ・その他の応用
              ②エミッション顕微鏡
　　　           a.再結合による発光
　　　           b.熱放射による発光　
              ③EBテスタ
　　　           a.電位観測の原理
　　　           b.絞込みの原理
              ④その他
      b.物理的解析技術

Ⅲ．故障解析事例

1.DRAMの解析事例

2.ロジックLSIの解析事例

3.パワーMOS-FETの解析事例

4.その他

Ⅳ．新しい故障解析技術の開発動向

1.光を利用した故障解析技術の開発動向

          a.走査レーザSQUID顕微鏡
          b.動的加熱解析（RIL,SDL,位相遅延表示T-LSIM）
　        c.LTEM（Laser Terahertz Emission Microscope）
　        d .固浸レンズ
　        e.近接場光学プローブ利用OBIRCH・OBIC

2.その他の故障解析技術の開発動向

3.LSITS,ISTFAなどの最新の報告

講師ご略歴

      ■略歴　
　　	1972年　大阪大学基礎工学部卒業
	1974年　同大学院基礎工学研究科修士課程修了
	1995年　工学博士（大阪大学）
	1974年　NEC入社。
	1992年　同社主管研究員。
	2002年 分社に伴い、ＮＥＣエレクトロニクスに移籍。
	2005年　同社シニアプロフェッショナル。
	主として、ＬＳＩ用先端故障解析技術の開発に従事。　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
      ■業績
　　　　LSIの信頼性技術、故障解析技術分野で活動。
　　　　現在は電子・光ビーム・SPM・SQUIDなどをベースとしたＬＳＩ用先端故障解析技術の研究開発。
　       特に走査レーザSQUID顕微鏡のＬＳＩ解析への応用。
　　■論文・技術解説　
　　　上記分野について、下記の媒体で、200件以上発表。
　　　　　　　（学会誌）　APL, J. Vac. Sci.Tech., JJAP, IEICE Trans., Microele. Rel. 他
	（国際会議）IRPS, ISTFA, ESREF, IPFA, VLSI Tech. Symp., ITC, ATS, DRIP, NFO 他
	（研究会）学振132,151,信学会研究会、 他
	（学術講演会・シンポジウム）ＬＳＩテスティングシンポジウム、応物、R&MS(日科技連）、
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　REAJS（日本信頼性学会）他
	（解説）応用物理、日経マイクロデバイス他

　　■著書
　　　　１．はじめてのデバイス評価技術（2000）、工業調査会、数千部　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　２．デバイス部品の故障解析（共著、1992）、日科技連出版、数千部　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　３．「ナノ光工学ハンドブック」朝倉書店（2002）分担執筆
　　　　他に、以下のものなどで分担執筆多数（最近のもののみ挙げる）
	　　「Vortex Electronics and SQUIDs」 Springer　(2004).
　　　　　　　　　「電子顕微鏡研究者のためのFIB・イオンミリングQ&A」,アグネ承風社（2002）.
　　　　　　　　　「走査電子顕微鏡」共立出版　(2000)　　　　　　　　
　　　　　　　　　「走査プローブ顕微鏡」丸善　(2000)　
　　　　　　　　　「半導体大辞典」工業調査会　(1999)　
　　　　　　　　　「電子ｲｵﾝﾋﾞｰﾑﾊﾝﾄﾞﾌﾞｯｸ（第3版）」日刊工業（1998）
　　　　　　　　　「信頼性ハンドブック」日科技連　(1997)　　
　　■所属学会、役職など　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　日本信頼性学会（理事、副会長、評議員、研究会幹事、など歴任）、応用物理学会、IEEE，
　　　　EDFAS（電子デバイス故障解析学会、米国）

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