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薄膜形成プロセスで遭遇するトラブル対策のための

薄膜技術基礎

〜基礎知識から、装置例、実際の適用例、薄膜の評価方法、トラブル対応まで〜

【WEB受講(Zoomセミナー)ライブ配信/アーカイブ配信(7日間、何度でも視聴可)

オープンセミナー WEB受講

エレクトロニクス化学機械

実務に必要な基礎知識(真空工学,表面物性工学,プラズマ工学)から,各種薄膜形成技術の原理と特徴, 薄膜形成条件の決定に必要なポイント, 各種薄膜評価法から薄膜形成に関するトラブルの診断に必要な知識について,具体的事例を交えながら詳しく解説する特別セミナー!!

講師

三重大学 大学院工学研究科 教授・博士(工学) 佐藤 英樹 先生

講師紹介

日時
2025/7/30(水) 10:00〜16:00
会場
※本セミナーはWEB受講のみとなります。
受講料
(消費税率10%込)1名:49,500円 同一セミナー同一企業同時複数人数申込みの場合 1名:44,000円
テキスト
PDF資料(受講料に含む)

受講概要

受講形式

WEB受講のみ

 ※本セミナーは、Zoomシステムを利用したオンライン配信となります。

受講対象

・半導体・電子デバイス,建材,食品産業,医療などで薄膜形成に関連する研究・開発・製造業務に新規に従事する方
・薄膜に関してある程度の実務経験はあるが、自分の知識を系統的に整理したい方 など

予備知識

高等学校程度の物理,化学および数学の知識 があれば理解が進みます。

習得知識

1)実務に必要なレベルの真空工学,表面物性工学,プラズマ工学,薄膜工学の知識
2)各種薄膜形成技術の原理,特徴に関する知識
3)所望の特性を得るための薄膜形成条件を決めるための基礎知識
4)薄膜形成に関するトラブルの診断に必要な基礎知識 など

講師の言葉

 薄膜技術は、半導体集積回路やフラットパネルディスプレイなどの電子デバイス製造はもちろんのこと、光学,太陽電池,建材,食品産業,医療と、さまざまな産業分野を支える基幹技術です。現在では多機能で高性能な薄膜形成装置が市販されており、かつてと比べて容易に薄膜形成が行えるようになりました。ややもすると、薄膜形成装置は単なるブラックボックスで、そのしくみや薄膜形成の原理をよく理解せず、決められた手順だけ守って日々の仕事をこなす状況になりがちです。

 しかしながら、新規の条件で薄膜形成を行う場合、所望の薄膜を得るためには各種条件が膜質におよぼす影響を考慮しつつ、条件を選択する必要があります。また、薄膜形成プロセスで遭遇する種々のトラブルに際しては、その原因を診断し、適切に対処すること求められます。そのようなときに必要になるのが、薄膜技術に関する基本的かつ系統的な知識です。

 本講座では、薄膜技術に携わる方々を対象に、これらの技術に関する基礎的かつ系統的な知識を習得し、実際の業務に生かして頂くことを目標とします。

プログラム

1.成膜技術ための基礎知識

(1) 真空工学


(2) 表面物性工学


(3) プラズマ工学

2.物理気相成長(PVD)法

(1) 真空蒸着法
a. 原理
b. 真空蒸着法の種類
c. 真空蒸着法の留意事項

(2) スパッタ法
a. 原理 
b. スパッタ法の種類
c. スパッタ法で作製される薄膜の特長
d. スパッタ法の留意事項

3.化学気相成長(CVD)法

(1) 原理


(2) 化学気相成長法の種類


(3) 化学気相成長法による薄膜形成例


(4) 化学気相成長法の留意事項

4.薄膜評価法

(1) 形態観察


(2) 膜組成、膜構造分析


(3) 付着力、膜応力測定


(4) 電気的特性、光学的特性測定

5.成膜プロセスで遭遇する    さまざまなトラブル

(1) 膜質に関するトラブル


(2) 装置に関するトラブル

まとめ

まとめ

質疑・応答

略歴

1996〜2000 アネルバ株式会社(現 キヤノンアネルバ株式会社) 半導体装置事業部 技術担当
上記期間中、量産用スパッタリング装置、プラズマCVD装置およびMOCVD装置の開発業務に従事
2000〜2007 三重大学 大学院工学研究科 電気電子工学専攻 助手
2007〜2023 同 准教授
2023〜現在  同 教授
2002〜2003 米国ノースカロライナ大学チャペルヒル校 客員研究員
上記期間中、各種薄膜形成法を使用したナノカーボン材料の合成およびその応用に関する研究に従事