レジスト材料のトラブルを解決するための 入門と実践:レジスト材料・プロセスの使い方ノウハウとトラブル解決策
 ※受講者が抱えているトラブルやノウハウの相談に個別に対応

フォトレジスト材料の特性,プロセスの最適化,付着・濡れ・欠陥などの各種トラブルの評価・解決のアプローチ,
  研究開発・トラブルフォロー等実務上の取組みについて豊富な事例を交えて解説する特別セミナー!!

講師 国立大学法人 長岡技術科学大学大学院 教授 博士(工学) 河合 晃 先生
研究成果活用企業 アドヒージョン株式会社 代表取締役 兼務
  三菱電機(株)ULSI研究所を経て現職にてプロセス技術の研究開発に従事
日時

2019/4/12(金) 10:00 ~ 16:30

会場

連合会館 (東京・お茶の水)

会場案内
受講料 (消費税等込み)1名:48,600円 同一セミナー同一企業同時複数人数申込みの場合 1名:43,200円
講師 国立大学法人 長岡技術科学大学大学院 教授 博士(工学) 河合 晃 先生
研究成果活用企業 アドヒージョン株式会社 代表取締役 兼務
  三菱電機(株)ULSI研究所を経て現職にてプロセス技術の研究開発に従事
日時 2019/4/12(金) 10:00 ~ 16:30
会場

連合会館 (東京・お茶の水)

会場案内
受講料 (消費税等込み)1名:48,600円 同一セミナー同一企業同時複数人数申込みの場合 1名:43,200円

受講対象

 レジスト材料、処理装置メーカ、電子デバイスメーカ、技術開発・試作・量産部門など若手技術者、技術管理職
 初めてレジスト材料を扱う方、レジストを使用して製品・開発を生産する方、レジスト分野の技術指導をする方など、
 初心者から実務者まで広範囲の方を対象としています。

予備知識

 一般的な物理・工学の知識

習得知識

 レジストを使用する上での基本的な考え方、ノウハウ、最適化法、トラブル対処法、
などが習得できます。

講師の言葉

 現在、フォトレジストは、産業の様々な分野で広く利用されています。しかし、その高度化に伴い、フォトレジストの
品質が製品に与える影響も深刻化しています。
 また、フォトレジストユーザーの要求も幅広くなり、フォトレジスト材料および装置メーカー側は対応に追われる状況です。
 本セミナーでは、これからレジスト材料を使用するユーザー、レジスト材料開発、処理装置開発、リソグラフィでトラブルを
抱えている方々を対象に、フォトレジスト材料の特性、プロセスの最適化、付着・濡れ・欠陥といった各種トラブルに注目し、
評価・解決のアプローチを丁寧に説明します。
 また、研究開発・トラブルフォローといった実務上での取り組み方について、豊富な実例を交えながら解説します。
 初心者にも分かりやすく、基礎から学べる内容となっています。また、最近の傾向として、レジスト材料メーカーおよび
装置メーカーにおいても、デバイス作製のノウハウと知識が求められてきています。レジストユーザーの視点とは何かを
講師の経験も含めて詳述します。受講者が抱えている日々のトラブルやノウハウ相談にも個別に応じます。

プログラム

1.レジスト・リソグラフィ入門(これだけは習得しておきたい)
 1-1 リソグラフィプロセスの基礎
(プロセスフロー、レジスト材料、ポジ型、ネガ型レジスト、光化学反応メカニズム、
 パターン現像、露光システム、レイリ―の式、解像力、焦点深度、重ね合わせ技術)
 1-2 レジストコントラストで制御する
(光学像コントラスト、残膜曲線、溶解コントラスト、現像コントラスト、パターン断面形状改善)
 1-3 エッチングマスクとしてのレジストパターン
(プラズマとは、等方性と異方性エッチング、RIE、エッチング残差、ローディング効果、選択比、ウェットエッチング、レジスト浸透性)
 1-4 レジストコーティング方式の最適化
(粘度、スピンコート、塗布むら対策、スキャンコート、スプレーコート、減圧ベーク、乾燥むら、インクジェットコート)
 1-5 高解像・機能性リソグラフィ技術
(EUV, 位相シフトマスク、多層レジストプロセス、液浸リソグラフィ、ナノバブル、
 厚膜レジスト、光造形、感性制御パターン、ナノインプリント、ソルダーレジスト,
 積層レジスト、ダブル/マルチパターニング)


2.レジストトラブルの発生メカニズムと対策(最短でのトラブル解決のために)
 2-1 レジスト付着性の促進および低下要因とは
(表面エネルギー、凝集力、応力緩和、応力集中、溶液浸透、検査用パターン)
 2-2 乾燥プロセスでのパターン剥離を検証する
(毛細管現象、パターン間メニスカス、Lucas-Washburnの式、エアートンネル)
 2-3 表面エネルギーからレジスト付着性が予測できる
(濡れ性、Youngの式、表面エネルギー、分散と極性、Young-Dupreの式、付着エネルギーWa、拡張係数S、円モデル、付着性と密着性の差)
 2-4 ドライ中での付着性は溶液中と逆の結果になる
(軟化点効果、極性成分γp効果、最適条件の設定方法)
 2-5 過剰なHMDS処理はレジスト膜の付着性を低下させる
(最適な処理温度と処理時間、装置設計)
 2-6 パターン凸部は凹部よりも剥離しやすい
(アンダーカット形状、応力解析、応力集中効果、熱応力、表面硬化層の影響)
 2-7 レジスト膜の応力をin-situ測定する
(減圧処理、応力緩和と発生、溶剤乾燥、拡散モデル)
 2-8 レジスト膜の膨潤を計測する
(アルカリ液の浸透、クラウジウス・モソティの式、屈折率評価、導電性解析)
 2-9 レジスト膜の欠陥発生メカニズムと対策
(乾燥むら、ベナールセル、環境応力亀裂、ピンホール、膜はがれ)

3.レジスト材料プロセスの高品位化(高付加価値のレジストを目指す)
 3-1 微小パターンの物性
(表面サイズ効果、高分子集合体、粒子凝集モデル、ナノウェット効果)
 3-2 レジストパターン1個の付着力を実測する
(DPAT法、計測感度、ナノサイズの付着力の実験式)
 3-3 レジスト膜表面にはナノ硬化層が存在する
(AFMインデンテーション法、断面硬化層分布、LER評価)
 3-4 レジスト平坦性(平坦化の要因、計測評価法)
 3-5 レジスト膜の超薄膜化(シングルナノ膜厚の形成)
 3-6 レジスト除去技術(ドライ、ウェット、残渣除去)

4.技術開発および各種トラブル相談(日頃のトラブルサポートなどに個別に応じます)

講師紹介

 三菱電機(株)ULSI研究所での勤務を経て、現職にてコーティング、表面界面、プロセス技術の研究開発に従事。
 各種論文査読委員、NEDO技術委員、国および公的プロジェクト審査員などを歴任。原著論文150報以上、国際学会100件、
 特許出願多数。 大学ベンチャー企業 アドヒージョン(株)代表取締役 兼務